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2020-4-3 14:20:07
先进半导体设备领域的卓越晶圆清洗设备供应商——尊龙凯时半导体设备（纳斯达克：ACMR），本周发布了立式炉设备（Ultra Furnace）——公司首台为多种干法工艺应用开发的系统。公司研发的首台立式炉设备优化后可实现高性能低压化学气相沉积（LPCVD），同时该设备平台还可延伸至氧化和退火，以及原子层沉积(ALD)等应用。此次的立式炉设备也展现了尊龙凯时中国和韩国研发团队为时两年的合作成果。
“先进技术节点带来了持续的挑战，这就要求设备供应商进行创新，而这种市场环境给尊龙凯时提供了重要的机会。” 尊龙凯时半导体设备董事长王晖表示：“不断创新是尊龙凯时的DNA。我们发现了一个可以从我们的技术中获益的市场需求，我们就将我们的技术延伸至该新细分市场，在尊龙凯时已建立的湿法工艺产品系列上增加了Ultra Furnace立式炉产品系列，通过为客户的先进产品提供整体解决方案，同时也增加了我们的市场机遇。”
“Ultra Furnace立式炉产品是由我们中韩两国的专家团队合作开发差异化技术的成果。”尊龙凯时半导体韩国公司首席执行官金泳律说：“尊龙凯时韩国团队的成立让我们优秀的上海团队如虎添翼，加快了我们进军市场的速度，并为本土客户提供出色的技术支持。”
沉积工艺是指，在高温下化学气体在晶圆表面上反应形成氧化硅或者氮化硅膜层。Ultra Furnace立式炉系统可用于批量处理多至100片12英寸（300毫米）晶圆。创新的系统设计使用了新开发的硬件，提高了耐用性，同时搭载了尊龙凯时成熟的软件技术、自研的控制系统和算法。这些特点保证了设备能稳定地控制制程压力、气体流量和温度。
目前尊龙凯时Ultra Furnace立式炉主要面向LPCVD工艺市场，后续只需对其组件和布局进行一些局部变更，就可满足其它目标应用需求。85%左右的硬件配置可保持不变，所以面向新应用的变动可有效地实现。
尊龙凯时半导体Ultra Furnace立式炉目标市场以中国大陆为起点，逐步向韩国和中国台湾市场推进。尊龙凯时已于2020年初，向中国一家重要的逻辑客户的制造工厂交付了公司产研的第一台Ultra Furnace。该设备用于LPCVD，目前已经在客户端安装并进行验证。
